Le centre flamand de R&D en microélectronique et le fabricant d’équipements de production de circuits intégrés ouvrent un laboratoire commun dédié aux équipements de gravure aux ultraviolets extrêmes à ouverture numérique élevée.

L’Imec et ASML renforcent leur collaboration dans le domaine de la lithographie aux ultraviolets extrêmes (EUV) en ouvrant un laboratoire commun de recherche sur les EUV à ouverture numérique (NA) élevée. Partenaires depuis presque trente ans, le centre flamand de R&D en microélectronique et le fabricant néerlandais d’équipements de production de circuits intégrés ambitionnent ainsi de relever les challenges techniques qui se posent à la gravure de composants en 3 nm et en-deça. Ils utiliseront pour cela le tout nouveau scanner EXE:5000, pourvu d’une ouverture numérique de 0,55 et offrant donc des angles de gravure et une résolution supérieurs. 

Concernant des débouchés plus immédiats, notons qu’un scanner EUV NXE:3400B d’ASML (NA de 0,33) vient d’être installé dans les salles blanches de l’Imec. Doté d’une source de lumière de 250W, ce système peut traiter plus de 125 tranches de silicium par heure. Un scanner à immersion NXT:2000i sera également installé à l’Imec, au cours de l’année 2019, de même que des équipements de métrologie à l’état de l’art.