Le PROVision d’Applied Materials permet la détection de défauts jusqu’alors indétectables. Sa vitesse d’inspection est trois fois plus grande que celle des outils d’inspection à faisceaux d’électrons actuellement en service.

Les semi-conducteurs s’appuient sur un nombre croissant de transistors élémentaires, eux-mêmes de plus en plus petits. Leur conception et leur fabrication s’appuient sur des process de plus en plus complexes, nécessitant un nombre toujours plus grand d’étapes élémentaires. Les architectures 3D compliquent encore plus la production. In fine, toutes ces évolutions imposent le repérage de défauts de plus en plus petits ainsi que de toute dérive dans les process de production.

C’est pour répondre à ces demandes qu’Applied Materials vient de lancer sur le marché un système d’inspection par faisceaux d’électrons, ultra-rapide et à très grande résolution (1nm). Baptisé PROVision, cet outil permet la détection de défauts jusqu’alors indétectables. Sa vitesse d’inspection (3 fois celle des outils d’inspection à faisceaux d’électrons actuellement en service) facilite le repérage des dérives de production.