Le Teron 640 a été conçu pour être utilisé par les fabricants de masques. Le Teron SL655 cible les fabricants de circuits intégrés.

Plus les semi-conducteurs se miniaturisent, plus la fabrication des masques servant à leur production est complexe. En effet, la miniaturisation met en évidence des défauts (contamination…) qui, jusqu’alors, n’influaient pas. D’où l’importance croissante de l’inspection des masques.

C’est dans ce contexte que KLA-Tencor annonce deux équipements d’inspection des masques pour les technologies 10nm et 7nm : le Teron 640 et le Teron SL655.

Le Teron 640 a été conçu pour être utilisé par les fabricants de masques. Il contrôle les masques optiques, c’est-à-dire qu’il repère les défauts risquant d’influer sur la qualité de la production des circuits intégrés, ainsi que la position exacte de ces derniers. Il utilise des algorithmes d’inspection optimisant la sensibilité et la rapidité du système en question.

Le Teron SL655 a été créé pour être utilisé lors de la production des circuits intégrés. Il repose sur une nouvelle technologie KLA-Tencor, dite StarLightGold, qui crée un masque de référence et permet le repérage de toutes sortes de défauts sur toutes sortes de masques – y compris les masques très complexes utilisant des corrections optiques de proximité.
Le SL655 permet également l’inspection des masques destinés à la lithographie EUV – qui sont différents des masques optiques utilisés avec la lithographie optique traditionnelle.

Dans la pratique, le Teron SL655 permet d’évaluer la qualité du masque et les conséquences possibles des défauts constatés sur le rendement de la production. Le Teron SL655 fonctionne en liaison avec le dispositif Reticle Decision Center (RDC) qui est un outil d’aide à la décision mis au point par KLA-Tencor. Cet équipement est aujourd’hui en évaluation chez plusieurs fabricants de circuits intégrés.