Le spécialiste japonais des équipements de dépôt-développement de résine va travailler avec le CEA-Leti, Mapper, STMicroelectronics et TSMC au développement d’une lithographie sans masque pour circuits en technologie 22 nm et inférieure à 22 nm.
Sokudo, fabricant japonais de machines de dépôt-développement de résine pour semiconducteurs, vient de rejoindre le programme Imagine placé sous la houlette du CEA-Leti.
Prévu pour une durée de trois ans (début 2009 à fin 2011), ce programme a pour objectif la mise au point d’un système complet de lithographie sans masque dédié à la production de circuits intégrés en technologie 22 nm et inférieure à 22 nm.
Imagine s’appuie pour cela sur la technologie de lithographie par faisceaux d’électrons de la société néerlandaise Mapper. Dans cette technologie, les faisceaux d’électrons viennent écrire directement sur un film sensible.
Outre Mapper, les autres sociétés impliquées dans Imagine sont STMicroelectronics et le fondeur TSMC.
La technologie de lithographie sans masque est notamment intéressante pour la souplesse qu’elle apporte. Son principal défaut, c’est sa lenteur. Ainsi, sa capacité de traitement n’excède pas la dizaine de tranches de silicium de 300 mm par heure. Les équipements l’utilisant sont beaucoup moins rapides que les machines de lithographie en immersion et à UV extrêmes.
