L’Ebeam Initiative est un organisme de promotion de l’écriture directe de masques par faisceaux d’électrons.

Le fondeur chinois Smic vient de rejoindre l’Ebeam Initiative, un organisme de promotion de l’écriture directe de masques par faisceaux d’électrons. Cet organisme compte 45 sociétés adhérentes appartenant à la fabrication de masques et à la production de semi-conducteurs.

Cette année, l’Ebeam Initiative met l’accent sur l’écriture directe par multiples faisceaux d’électrons et la lithographie aux UV extrêmes.

L’écriture directe par multiples faisceaux d’électrons peut servir à réaliser les masques utilisés pour la fabrication des circuits intégrés ou à écrire directement sur le wafer.