Riber a signé un accord de licence avec Toulouse Tech Transfert pour l’exploitation d’une technologie de mesure de la courbure et des défauts de surface mise au point par le LAAS-CNRS.
Riber, spécialiste des systèmes d’épitaxie par jets moléculaires (MBE), des sources d’évaporation ainsi que des cellules destinées à l’industrie des semi-conducteurs, vient de signer un accord de licence avec Toulouse Tech Transfer (TTT), opérateur régional en charge de la valorisation et du transfert de technologie de la recherche publique vers les entreprises, pour l’exploitation d’une technologie de mesure de la courbure et des défauts de surface mise au point par le LAAS-CNRS.
Le dispositif optique conçu par Alexandre Arnoult et Jonathan Colin du LAAS-CNRS facilite le contrôle des dépôts de couches minces de matériaux ; il remplace des outils moins précis, complexes à mettre en œuvre et coûteux. Encore perfectible, ce dispositif sera également équipé d’algorithmes de Machine Learning, développés pour optimiser l’analyse et le contrôle du processus de croissance des matériaux.
Ce dispositif a pris le nom d’EZ-Curve chez Riber. « Non invasif, économique, portatif, léger, facile à installer et simple à utiliser, EZ-Curve est parfaitement adapté à l’analyse in-situ du procédé épitaxial », indique le communiqué de presse. Dans la pratique, ce dispositif permet le contrôle du procédé de croissance épitaxiale tant au plan de la R&D qu’à celui de la production.
« EZ-Curve est une innovation technologique significative par rapport aux instruments de mesure existants sur le marché. Notre ambition est d’apporter à nos clients très précisément les leviers pour améliorer considérablement leur process et les résultats de leurs développements, qu’ils soient académiques ou industriels. Cette nouvelle brique technologique et son industrialisation sont en capacité de renforcer encore plus les performances de la MBE », estime Philippe Ley, le directeur général de Riber.
« Suivre les déformations d’une plaquette pendant la croissance ou le traitement d’un film mince sous vide est une source inégalée d’informations quant aux processus atomistiques en jeu et au contrôle qualité pour des procédés de série. Ce suivi était jusqu’à présent réservé aux spécialistes utilisant des outils complexes à maitriser et contraignants. Notre nouvelle technologie permet ce tour de force d’allier une sensibilité accrue, une grande robustesse et une simplicité de mise en œuvre qui rend enfin possible son déploiement sur un grand nombre de systèmes de pointe et/ou de production. Par exemple, nous pouvons enfin suivre en continu la croissance par épitaxie par jets moléculaires de structures complexes de semi-conducteurs peu contraints, ce qui ouvre la voie au rétrocontrôle in-situ en cours de procédés, et donc à l’optimisation et à l’automatisation des procédés », déclare à son tour Alexandre Arnoult (LAAS-CNRS).
