La start-up française spécialisée dans les solutions logicielles pour les équipements de lithographie à faisceaux d’électrons, travaillera avec le japonais sur la technologie 20 nm. Aselta Nanographics, société créée en 2009 suite à un essaimage du CEA-Leti, et NuFlare, fabricant japonais d’équipements de lithographie à faisceaux d’électrons avec masque, ont récemment annoncé un partenariat technologique. Ce dernier a pour objectif de mettre en commun le système EBM-8000 de NuFlare avec les solutions logicielles d’Aselta destinées aux équipements de lithographie à faisceaux d’électrons utilisés pour la fabrication de circuits intégrés de dernière génération, en technologies 32 nm et inférieures.

Le but est ici d’améliorer le processus de préparation des données afin d’optimiser chaque étape de la lithographie avec masque, en particulier pour les applications en technologie 20 nm.

Aselta est implanté sur le site de Minatec, à Grenoble, et compte actuellement une quinzaine de salariés.