La ligne pilote 300 mm du CEA-Leti, institut de CEA Tech, vient de se doter d’équipements avancés de défectivité afin de répondre aux besoins des projets industriels.

​Après l’acquisition d’un scanner à immersion ainsi que d’autres équipements destinés à compléter et à étendre sa ligne de production en 300 mm en 2019, le CEA-Leti vient de se doter de machines de défectivité (inspection et revue). Ces dernières ont pour ambition d’analyser les dispositifs électroniques à différentes étapes clés du procédé de fabrication pour détecter et localiser les défauts éventuels.

Dans un premier temps, l’équipement d’inspection optique Uvision8 permet par comparaison puces à puces d’identifier les différences pour un niveau donné (en termes d’aspect, de forme des motifs, présence de particules ou dépôts parasites avec une résolution d’une vingtaine de nanomètres). Ce dernier génère en sortie d’inspection une cartographie avec la répartition des défauts sur la plaque.

Dans un second temps, cette cartographie est fournie à l’équipement de revue de défauts Semvision_G7E, lequel procède à une analyse plus poussée des anomalies par imagerie haute définition, afin d’en identifier la nature et les conséquences. Des algorithmes poussés combinés à de l’intelligence artificielle permettent d’obtenir une classification automatique des défauts (et donc la séparation entre « vrai » et « faux » défauts).

Une fois l’origine des défauts établie (variation locale du procédé de fabrication, problème de design, présence de particules…) des actions correctives peuvent être appliquées pour les éliminer, améliorer les rendements et les performances des puces. La défectivité est devenue un impondérable pour les projets industriels les plus importants.