L’enjeu scientifique de cette chaire est de faire émerger de nouvelles applications dans les domaines du photovoltaïque, de la microélectronique et des nouvelles générations de capteurs et d’écrans.

L’Agence nationale de la recherche, le CNRS, l’Ecole polytechnique et Total viennent d’annoncer la création de la chaire industrielle ANR Pistol (“Plasma Processing of Industrial Semiconductors at Low Cost”). Cette chaire rassemble une équipe de recherche commune qui a pour objectif de développer de nouveaux procédés de traitement par plasma pour les semiconducteurs.

Ce projet est financé à parts égales par Total et l’Agence nationale de la recherche (ANR) sur une période de quatre ans. Il est porté par Erik Johnson, chercheur CNRS au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS / l’Ecole polytechnique).

Les procédés basés sur les plasmas sont des techniques largement répandues dans l’industrie pour la croissance contrôlée de matériaux (écrans plats, photovoltaïque, capteurs,…) ou la gravure de très grande qualité en terme d’uniformité sur des surfaces importantes (microélectronique).

Dans ce contexte, Pistom a pour objectif d’enrichir ces procédés en ajoutant un élément de sélectivité en surface et en profondeur, soit pour obtenir un motif particulier de semiconducteur, soit pour appliquer un traitement spécifique à un endroit précis. Il s’agit d’une avancée importante pour les applications dans les domaines du photovoltaïque, de la microélectronique, et des nouvelles générations de capteurs et d’écrans.

La chaire industrielle Pistol vise, à terme, à réduire les coûts de production et à favoriser de nouvelles pistes de recherche sur des architectures innovantes de composants électroniques. Les activités scientifiques de Pistol se dérouleront principalement au Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces (LPICM, CNRS / l’Ecole polytechnique). Elles profiteront également des plateformes d’équipements scientifiques installées par les équipes de Total au sein de l’Institut photovoltaïque d’Ile-de-France (IPVF) à Palaiseau. Le financement dédié au projet Pistol permettra l’engagement de deux chercheurs post doctorants sur quatre ans et d’un doctorant dont le sujet de thèse portera sur le dépôt sélectif par plasma.
Plasma Processing of Industrial SemiconducTOrs at Low Cost