Micron a annoncé son intention d’introduire la technologie de lithographie EUV (ultra-violets extrêmes) au Japon. L’Américain va investir jusqu’à 500 milliards de yens (soit 3,7Md$) pour exploiter cette technologie en vue de fabriquer sa prochaine génération de Dram en nœud 1-gamma dans son usine d’Hiroshima. La production de ces puces est prévue pour 2025.
Selon la société, Micron sera la première entreprise de semi-conducteurs à introduire la lithographie EUV au Japon.

« Les activités de Micron à Hiroshima ont joué un rôle central dans le développement et la production de plusieurs technologies de pointe pour les mémoires au cours de la dernière décennie. Nous sommes fiers d’être les premiers à utiliser les EUV au Japon et de développer et de produire du 1-gamma dans notre usine d’Hiroshima. Nos projets reflètent notre engagement continu envers le Japon, nos relations étroites avec le gouvernement japonais et le talent exceptionnel de notre équipe de Micron Hiroshima », a déclaré Sanjay Mehrotra, président et CEO de Micron.