L’Américain Plasma-Therm, spécialiste des technologies et équipements plasma dédiés à la production de semi-conducteurs, vient de racheter Thin Film Equipment (TFE). Basé à Binasco près de Milan, TFE développe des équipements de pulvérisation pour la R&D et la production microélectronique, avec un savoir-faire reconnu dans la déposition et l’évaporation de vapeur PVD (physical vapor deposition) et les matériaux à haut niveau de pureté. TFE continuera d’opérer de manière indépendante, mais combinera sa technologie PVD avec les process plasma de Plasma-Therm, en direction des composants de puissance entre autres. « Cette acquisition nous permet également d’étendre notre présence en Europe, qui est l’un des pivots de notre croissance à long terme » souligne Abdul Lateef, CEO de Plasma-Therm dont le siège européen est situé à Grenoble et comprend un centre de R&D et des salles blanches de production et de démonstration.