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L’eau pourrait repousser les limites de la lithographie 193 nm
Une technique de lithographie en immersion permettrait d’utiliser des scanners 193 nm pour réaliser des motifs de 22 nm ! Une technique utilisée depuis 125 ans dans la microscopie pourrait bien permettre d’allonger la durée d’exploitation des équipements de lithographie 193 nm, le haut de gamme actuellement en production pour les technologies de semiconducteurs 110 nm. Ces scanners 193 nm pourraient…
