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Créer un masque directement à partir de la conception : c’est possible !
Selon la jeune société américaine MicroEDA, le logiciel, qu’elle s’apprête à lancer sous le nom de MicroEx, serait capable de générer les fichiers Mebes (format le plus couramment utilisé pour la lithographie par faisceau d’électrons et la production de masques) directement à partir d’une base de données utilisée pour la conception, telle qu’OpenAcess, développée par…
