Applied Materials dévoile un équipement ALD de course

Le 01/09/2015 à 0:00 par Didier Girault
Le modèle Olympia réalise la déposition de couches atomiques en moins de temps que les machines aujourd’hui en fonctionnement grâce à une architecture modulaire qui permet notamment de supprimer les purges habituellement nécessaires en ALD. L a déposition de couches atomiques (ALD pour Atomic Layer Deposition ) consiste à créer par réaction chimique, de très…
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