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Des équipements EUV traitant 170 wafers par heure en 2019
Cette nouvelle génération de matériels de lithographie d’ASML supplantera les modèles actuels à 125 wafers par heure, et servira la production en technologie 7 nm. Pour les nœuds ultérieurs, le fabricant met au point des machines EUV à ouverture numérique 0,55. = Au second semestre 2019, ASML proposera le système de lithographie aux UV extrêmes NXE:…
