Encore au stade du laboratoire, cette machine est aujourd’hui utilisée dans la fabrication de circuits intégrés en technologie 22nm.

 Selon le Quotidien du Peuple, « l’Institut d’optique et d’électronique de l’Académie chinoise des sciences a annoncé, le 29 novembre dernier, avoir développé son propre appareil de photolithographie ».

Les chercheurs en question ont exploité un nouveau phénomène physique, découvert par eux en 2003, pour créer cette machine – qui a fait l’objet de 4 brevets internationaux et de 47 brevets chinois.

Encore au stade du laboratoire, cette machine de photolithographie UV permet aujourd’hui la fabrication de circuits intégrés en technologie 22nm. Elle est utilisée par « plusieurs institutions dont l’université du Sichuan et l’Université des sciences et technologies électroniques de Chine ».
A l’avenir elle pourrait être utilisée pour le 10nm. Et les experts de l’Institut d’optique et d’électronique travaillent à en augmenter la productivité de façon à ce qu’elle puisse être intégrée à une ligne de production en usine.