Ce fournisseur de matériaux pour l’électronique apportera son savoir à l’extension de la lithographie optique aux technologies inférieures à 20 nm, et à la mise au point d’un système industriel d’écriture directe par faisceaux d’électrons.

Le fournisseur de matériaux pour l’électronique JSR Micro, filiale de JSR, vient de signer un accord avec le CEA-Leti pour un projet d’utilisation de la lithographie optique pour des technologies inférieures à 20 nm, ainsi que pour la mise au point d’équipements industriels d’écriture directe par faisceaux d’électrons.

Ce dernier travail sera effectué dans le cadre du programme Imagine. Ayant vu le jour en juillet 2009, ce programme a pour objectif la mise au point d’un équipement d’écriture directe à faisceaux d’électrons multiples, qui soit rentable en production.
Imagine vise notamment à accélérer la vitesse d’écriture des systèmes d’écriture directe jusqu’alors disqualifiés en production du fait de leur lenteur. Pour cela, il table sur la mise en parallèle de machines élémentaires.
Est d’ores et déjà prévue pour 2015, la commercialisation d’un système complet avec environnement de fonctionnement (préparation des données, intégration dans les process de production Cmos…). Ce système devrait donc être lancé commercialement au moment du passage au nœud technologique 14 nm.

“La mise au point de nouveaux procédés et matériaux est l’un des principaux défis que doit relever la lithographie pour les technologies inférieures à 20 nm“, indique Serge Tedesco, responsable du programme au Leti.