Le centre de recherche belge en microélectronique et nanoélectronique recevra du fabricant d’équipements de production de semi-conducteurs, des machines dédiées aux technologies avancées, notamment au nœud 14 nm.

L’Imec, centre belge de recherche en microélectronique et nanoélectronique, vient de signer un nouvel accord de partenariat d’une durée de cinq ans, avec le fabricant néerlandais d’équipements de production de semi-conducteurs ASML.
A la suite de cet accord, ASML installera, en novembre prochain, un équipement de lithographie 193 nm en immersion, le modèle NXT 1950i, destiné notamment à la fabrication de circuits intégrés en technologies inférieures à 38 nm.

Selon cet accord, l’Imec sera également pourvu d’un système ASML de lithographie aux UV extrêmes (EUV) prévu pour la production de circuits intégrés en technologie 14 nm, le NXE 3300B. Ce dernier prendra le relais du modèle NXE 3100 dédié, lui, à la seule pré-production et installé au centre belge de recherche au printemps dernier.

Enfin, ASML apportera à l’Imec une panoplie complète d’outils de mesure dernier cri conçus pour la lithographie, la Yieldstar S200.