Nikon accuse ces deux sociétés d’avoir violé des brevets protégeant la propriété intellectuelle de ses équipements de lithographie en immersion.

Le groupe japonais Nikon, qui, parmi d’autres, fabrique des équipements de production pour semi-conducteurs, vient d’intenter des procès pour violation de brevets relatifs à ses équipements de lithographie en immersion à ASML et à Carl Zeiss SMT – filiale de Carl Zeiss et partenaire d’ASML.

Nikon a démarré des actions en justice contre ASML auprès de la cour de la Hague (Pays-Bas) et de la cour de justice de Tokyo (Japon), ainsi qu’une action en justice visant Carl Zeiss SMT auprès de la cour de Mannheim (Allemagne).

Nikon fabrique des matériels de lithographie en immersion depuis les années 2000. Il a pour concurrent dans ce domaine ASML.
Les équipements de lithographie 193nm en immersion sont utilisés actuellement pour la production des semi-conducteurs. Et pour les technologies 7nm et en deçà, il est envisagé, au moins au départ, l’utilisation à la fois de tels équipement et de matériels de lithographie EUV – exclusivement mis au point et fabriqués, eux, par ASML. Nikon indique qu’aux Etats-Unis, il a déjà remporté de tels procès intentés à ASML et à Carl Zeiss.