Ce faisant, les deux sociétés renforcent leur partenariat en vue du lancement d’équipements de lithographie aux ultraviolets extrêmes à grande ouverture numérique qui faciliteront la production de circuits intégrés en technologies avancées (7nm et en-deçà).

ASML, spécialiste des équipements de production de semi-conducteurs, et le groupe Carl Zeiss viennent de signer un accord selon lequel ASML acquiert 25% de la filiale Carl Zeiss SMT au prix de 1 milliard d’euros.

L’accord prévoit également une aide de 760 millions d’euros d’ASML à Carl Zeiss SMT au cours des six prochaines années: 220M€ pour la R&D et 540M€ pour les équipements.

Les deux entreprises travaillent à la mise au point d’une nouvelle génération d’équipements de lithographie aux UV extrêmes, à ouverture numérique supérieure à 0,5, pour le début des années 2020. Ce qui permettra de produire des circuits intégrés en technologies avancées (inférieures à 7nm) rapidement. Dans ce contexte, Car Zeiss SMT fournira les sous-ensembles optiques, qui sont stratégiques. Les équipements de lithographie EUV proposés actuellement par ASML présentent une ouverture numérique de 0,33.

« La lithographie EUV avec ouverture numérique de 0,5 est la suite logique de la lithographie EUV avec ouverture numérique de 0,33 qui oblige à du multi-patterning (multi-séquençage). Ce sera la voie la plus économique pour produire des circuits logiques en technologies inférieures à 3nm », a déclaré Martin van den Brink, président directeur général d’ASML.

Encore soumise à l’approbation des autorités concernées, la transaction pourrait être finalisée au 2eme trimestre 2017.