Tandis qu’Intel a annoncé un report du lancement de sa technologie FinFET 10 nm,Samsung et TSMC s’accrochent à un calendrier de lancement prévu fin 2016. Pour un usage en production de la lithographie en ultraviolets extrêmes, il faudra sans doute patienter encore davantage.
La lecture de cet article est réservée aux abonnés.
Connectez-vous ou abonnez-vous pour y accéder.