Intel et ASML sont entrés dans une nouvelle phase de collaboration, marquée par la commande du tout premier système de lithographie aux ultraviolets extrêmes (EUV) Twinscan Exe:5200. Cet appareil est censé offrir une productivité supérieure à 200 tranches par heure. Intel avait déjà été le premier fabricant, en 2018, à acquérir un système Twinscan Exe:5000 auprès du fournisseur néerlandais. Ces deux machines sont caractérisées par une ouverture numérique de 0,55, d’où une précision accrue par rapport aux précédents systèmes présentant une ouverture de 0,33. Elles seront tout particulièrement utilisées pour les géométries de gravure attendues à partir de 2025 chez le fabricant américain de processeurs.