Le fabricant d’équipements d’épitaxie par jets moléculaires (MBE) Riber a annoncé la commande d’un système de recherche MBE Compact 21 DZ multi-chambre entièrement automatique par le groupe NanoMIR, (groupe de recherche de l’Institut d’Electronique et des Systèmes), de l’université de Montpellier, utilisé de front par le CNRS. NanoMIR est mondialement spécialisé dans les matériaux semi-conducteurs composés à base d’antimoniure, développant spécifiquement depuis dix ans des dispositifs optoélectroniques (lasers et photodétecteurs).
Ce système de recherche MBE Compact 21 DZ a été financé par le Programme d’Investissements d’Avenir (PIA) géré par l’Agence Nationale de la Recherche (ANR) pour le projet « HYBAT », ANR-21-ESRE-0026. Dans le détail, ce système intègre deux chambres configurées pour la croissance MBE de composés contenant des antimoniures (III-Sb), plus une troisième pour le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à distance (RP-CVD) de SiGe. Pour maximiser le contrôle du processus, le système sera doté du dernier instrument Ez-Curv de Riber, un outil de métrologie autorisant un contrôle de précision « in situ » en temps réel et la caractérisation du processus de croissance par MBE. Ce système multi-chambre permettra de développer de nouveaux matériaux photoniques infrarouges III-V déposés sur des plaquettes de silicium et de nouvelles structures quantiques, des « domaines d’intérêt stratégique dans toute l’Europe ».
Selon le responsable du groupe MBE à l’université de Montpellier, le professeur Eric Tournié, « le nouveau cluster Compact 21 va étendre et renforcer les capacités actuelles de nos clusters Riber MBE 412 et Compact 21, et nous offrir un plus large éventail de possibilités à explorer dans le cadre de nos activités de recherche et développement axées sur les dispositifs IR et quantiques de longueur d’onde moyenne à longue. Nos équipements MBE Riber existants ont été exceptionnellement stables et reproductibles à court et long terme ; un prérequis pour développer les structures complexes III-Sb nécessaires à notre travail […] ».